年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99,996%)

三氟化氮（Nitrogen Trifluorur），化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼴泛的应⽤领域。
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体芯幽杓体在显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽔唓位刻⽔域清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量綞放出⼤量烮洗光器应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料，并且在⽕箭发射中作为氧化剂和推迀和推迿

El trifluorur de nitrogen, fórmula química NF3, és un agent oxidant fort. Com a important gas especial industrial, té una àmplia gamma d'aplicacions.
A la indústria de la microelectrònica, el trifluorur de nitrogen és un excel·lent gas de gravat per plasma; En el xip de semiconductors, la pantalla plana, la fibra òptica, les cèl·lules fotovoltaiques i altres camps de fabricació, el trifluorur de nitrogen s'utilitza principalment com a gas de gravat per plasma i agent de neteja de cavitats de reacció.
També es pot utilitzar en làsers químics d'alta energia per aconseguir la seva aplicació reaccionant amb hidrogen per emetre una gran quantitat de calor en un instant. El trifluorur de nitrogen també s'utilitza com a combustible d'alta energia i com a oxidant i propulsor en els llançaments de coets.